耐久可靠的結構設計和制造工藝，確保儀器在種惡劣環境下都具有的分析性能。

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● 穩定，可靠的硬件
● 工廠校正曲線
● 光譜制造技術
● 優秀的分析軟件
● 分析準確度更高，分析速度更快
● 分析痕量元素和氣體元素具有新的突破
● 分析范圍廣泛：適于分析鋼鐵，鋁，銅，鎂，錫，鉛，鋅，貴金屬等金屬材料
● 對操作人員無特殊要求

技術規格
光普室設計: 一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制（38±0.1０C）,特殊鑄鐵材料制造,可設置60條通道
試樣臺: 充氬樣品臺內置自循環水冷系統
光柵: 根據分析任務,儀器配置以下三種光柵中的一種
1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm
分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級而定
狹縫寬度: 入射狹縫:20um 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um
光電倍增管: 直經Φ28mm,10級側窗管,光學玻璃或人造石英窗
光源: 電流控制光源(CCS)
光譜儀控制: 利用CMOS技術的APL MMB386微處理器,帶狀態控制卡每條通道均配置數模(A/D)轉換器和衰減器分為41檔測量電子部分的動態范圍與測量時間成正比,一般為2×106計數/秒
12位可編程衰減器
時間分辨光譜(TRS)
環境要求:室溫:16～30０C,更大允許溫差為50C/小時相對濕度20～80%
電力要求:電壓230V（+10%-15%），保護性接地的單相電源
（電壓波動超過±10%時需用5KVA穩壓器）。電流12A，頻率50或60Hz；功率2.5KVA接地電阻1Ω
歐洲標準:89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁
氬氣要求: 純度99.995%,更大含量5ppm(分析高Si樣品時,更大含量為2ppm)
流量3.5升/分(分析時),0.35升/分(待機時)
幾何尺寸: 長1385(不計激發臺) ×寬910×高1220mm
長1690(計激發臺) ×寬910×高1220mm
系統重理: 約540公斤
輔助設備: 氬氣凈化器瓶裝氬氣配氣系統穩壓器制樣機